대체수원을 활용한 반도체용 초순수 생산용 저분자 물질 제어 프로토타입 시스템 개발
대체수원을 활용한 반도체용 초순수 생산용 저분자 물질 제어 프로토타입 시스템 개발
목표
- 초순수의 원수로 대체수원을 이용하기 위한 Urea 제거용 FUV 균등 조사 및 광원 손실 최소화 산화시스템 개발
연구내용
- 무산소 환경 구현을 위한 FUV용 진공 챔버 개발
- FUV 균등 조사 구현을 위한 직/간접 조사 기술 개발
- 광섬유 FUV 조사 기술 개발
- FUV가 적용된 SEOF 반응기 프로토타입 개발
무산소 환경 구현을 위한
FUV용 진공 챔버 개발
- FUV 광원용 산화 반응기 개발
- FUV 산화능 비교 시험 설비 개발
- 진공용 램프 소켓, 석영관 소켓 개발
- 진공 씰링 구조 및 질소 충진 챔버
개발
FUV 균등 조사 구현을 위한
직/간접 조사 기술 개발
- 다양한 FUV 조사 방식 개발
- FUV 균등 조사 구조 개발
- 적합성 평가를 위한 시험 및 평가
FUV가 적용된 SEOF
반응기 프로토타입 개발
- Optical Fiber 적용 FUV 균등 조사 방식 개발
- Optical Fiber 적용 FUV 균등 조사 구조 개발
- 최적 성능 구현을 위한 램프 및 관로 배열 최적화 개발